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光致发光光谱成像测量系统

  • 型   号:PMEye-3000
  • 价   格:

光致发光光谱成像测量系统PL(光致发光)是一种辐射复合效应。在一定波长光源的激发下,电子吸收激发光子的能量,向高能级跃迁而处于激发态。荧光光谱代表了半导体材料内部,一定的电子能级跃迁的机制,也反映了材料的性能及其缺陷。PL是一种用于提供半导体材料的电学、光学特性信息的光谱技术,可以研究带隙、发光波长、结晶度和晶体结构以及缺陷信息等等。

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光致发光光谱成像测量系统 PMEye-3000
 

PMEye-3000光致发光光谱成像(PL-Mapping)测量系统是卓立汉光 新研制的,用于LED外延片、半导体晶片、太阳能电池材料等,在生产线上的质量控制和实验室中的产品研发检测。该系统对样品的PL谱进行Mapping二维扫描成像,扫描结果以3D方式进行显示,使检测结果更易于分析和比较。该系统的软件窗口界面友好,操作简单,只需简单培训就能使用。

测试原理:
PL(光致发光)是一种辐射复合效应。在一定波长光源的激发下,电子吸收激发光子的能量,向高能级跃迁而处于激发态。激发态是不稳定的状态,会以辐射复合的形式发射光子向低能级跃迁,这种被发射的光称为荧光。荧光光谱代表了半导体材料内部,一定的电子能级跃迁的机制,也反映了材料的性能及其缺陷。PL是一种用于提供半导体材料的电学、光学特性信息的光谱技术,可以研究带隙、发光波长、结晶度和晶体结构以及缺陷信息等等。

光致发光光谱成像测量系统应用领域举例:
LED外延片,太阳能电池材料,半导体晶片,半导体薄膜材料等检测与研究。

主要特点:

◆ PLMapping测量
◆ 多种激光器可选
◆ Mapping扫描速度:180点/秒
◆ 空间分辨率:50um
◆ 光谱分辨率:
0.1nm@1200g/mm
◆ Mapping结果以3D方式显示
◆ 大8吋的样品测量
◆ 样品精确定位
◆ 样品真空吸附
◆ 可做低温测量
◆ 膜厚测量


低温样品室附件
该附件可实现样品在低温状态下的荧光检测。有些样品在不同的温度条件下,将呈现不同的荧光效果,这时就需要对样品
进行低温制冷。


PMEye-3000光致发光光谱成像测量系统主要功能和技术参数
● 激发光源:405nm低噪声半导体激光器,功率:100mW(标配)
● 光谱分辨率:0.1nm(@1200g/mm光栅)
● 光探测器:硅光电探测器,200-1100nm
● 数据采集器:DCS300PA(直流模式,标配);SR830锁相放大器(交流模式,选配)
● 二维移动样品台,行程200mm,重复定位精度 <3μm
● 样品台:可放置6”晶片,真空吸附
● 扫描速度:10,800点/s
● 扫描步长: 小可达1.25μm
● 空间分辨率:<50μm
● 扫描模式:单点光谱扫描、单波长mapping、峰值波长mapping、峰值强度mapping等

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